為您淺述等離子清洗的優(yōu)勢(shì)

等離子清洗的優(yōu)勢(shì)：

  滿足無損傷和抑制腐蝕的新工藝要求。等離子清洗原理與超聲波原理不同，當(dāng)艙體里接近真空狀態(tài)時(shí)，開啟射頻電源，這時(shí)氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象。

  等離子體在電場(chǎng)下加速，從而在電場(chǎng)作用下高速運(yùn)動(dòng)，對(duì)物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時(shí)氧離子可以將有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

  等離子清洗不需要其他的原料，只要空氣就能夠滿足要求，使用方便而且沒有污染，同時(shí)比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢(shì)是等離子不但可以進(jìn)行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性。

等離子體與物體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)能夠產(chǎn)生活性化學(xué)集團(tuán)，這些化學(xué)集團(tuán)有很高的活性，從而應(yīng)用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，親水性等等很多方面，因此等離子清洗已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流趨勢(shì)。

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